CSI-F975 加熱防腐型勻膠機
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一、技術原理與核心參數
加熱防腐型旋轉涂覆儀采用聚四氟乙烯腔體，外觀美觀堅固，具有優良的化學穩定性和ji強的耐腐蝕性，能夠用于各種需要抗酸堿和有機溶劑的場合。儀器采用先進的精密電機，轉速能達到 12000 轉/分，有效的保障了成膜的均勻性。除了基本的旋涂功能，本品還配有加熱組件，可以加熱到 200℃，由智能溫控表控溫，溫度測定準確，升溫過程wanquan可控。另外本儀器采用觸控屏控制，可以預設勻膠曲線，大大簡化了使用過程降低了學習成本，十分適合實驗室選購。
二、關鍵性能參數
?項目? | ?參數要求? |
控制系統? | PLC控制系統 |
操作界面? | 彩色7寸觸摸屏，中英文切換? |
速度范圍 | 0~ 12000rpm，精度±1 |
加速度 | 100~8000rpm/s（空載） |
腔體材質 | 聚四氟乙烯 |
加熱溫度 | 室溫+200℃? |
傳動機構 | 精密電機+驅動器和高精度步進電機，傳動穩、噪音小； |
控溫方式 | AIP 智能控溫 |
滴膠方式 | 精密注射泵(0.01~5ml ，精度士 1% ，防回流設計） |
勻膠曲線 | 每條曲線 1000 段，共可儲存 30 條曲線 |
數據 | 支持 USB 導出數據 |
抽氣接口 | φ6mm 快擰接口 |
無油真空泵 | 50L/min， |
勻膠吸盤 | ?10mm,?25mm,?55mm,?100mm聚四氟材質 |
打印機 | 嵌入式微型打印機 |
電壓電流 | AC220V，50Hz |
外形尺寸 | 310mm×365mm×350mm |
重量 | 15kg |
三、應用領域
?光電子學領域?：用于制備太陽能電池、有機發光二極管（OLED）、有機太陽能電池（OPV）等器件的薄膜涂層?；
?半導體與微電子制造?：適用于光刻膠旋涂、晶圓表面涂布等工藝，支持最大12英寸晶圓處理?；
?材料科學?：可制備金屬、半導體、氧化物及聚合物等材料的均勻薄膜，尤其適合需要抗酸堿和有機溶劑的實驗環境?；
?生物醫學領域?：用于生物傳感器、生物芯片的涂層制備，聚四氟乙烯腔體設計確?；瘜W穩定性與耐腐蝕性?；
?納米科技?：支持納米材料與納米薄膜的制備，高精度控溫（室溫-200℃）和轉速調節（10-12000轉/分鐘）保障工藝穩定性?。
四、基礎操作流程
?A、安裝與準備?
?連接設備?
連接真空泵氣管與電源線，確保螺帽擰緊?。
插入設備電源線并打開總開關?。
?安裝吸盤與片托?
根據樣品尺寸選擇吸盤，對準槽口安裝并固定螺絲?。
將片托凹槽對準電機軸頂絲垂直放置?。
B、參數設置?
?選擇勻膠方案?
進入操作界面，選擇預設方案（如5段式參數）或自定義參數?。
?設置轉速、時間與加速度?
示例：第一段速度2000轉/分鐘，時間20秒，加速度2000?1。
分段設置（如第二段3500轉/分鐘，第三段10000轉/分鐘）?。
?溫度控制（如需加熱）?
設置溫度范圍（0-200℃），支持手動或自動加熱模式?。
C、旋涂操作?
?放置樣品?
將基片居中放置于片托，啟動真空泵吸附固定?。
?啟動勻膠?
轉速穩定后注入膠液，程序自動分段執行?。
?完成與清潔?
等待轉速歸零，關閉真空泵并取出樣品?。
定期清潔抽氣孔（滴酒精維護）?。
D、注意事項?
?防腐設計?：聚四氟乙烯腔體可耐酸堿腐蝕，避免接觸強氧化劑?。
?安全防護?：加熱模塊高溫，操作時勿觸碰?。
五、儀器特點
?1.防腐設計?
腔體材質采用?聚四氟乙烯（PTFE）?或?聚丙烯（PP）?，抗強酸、強堿及有機溶劑腐蝕?。
部分機型配備?防濺廢料罐?和?排液管?，防止腐蝕性液體污染環境?。
?2.加熱與溫控功能?
加熱范圍覆蓋?室溫至200℃?，控溫精度±1-2℃，適用于高溫工藝（如光刻膠烘烤）?。
支持?分段控溫?，部分機型集成?抽廢氣功能?，確保工藝穩定性?。
?3.高精度勻膠性能?
轉速范圍?10-20000轉/分鐘?，電機采用無刷伺服或德國進口電機，保障薄膜均勻性（厚度誤差±1%）?。
部分機型支持?正反轉旋涂?和?分段編程?，優化復雜工藝需求?。
?4.智能化操作?
配備?觸摸屏控制?、藍牙通信及PC端遠程控制軟件，支持配方存儲與掉電保護?。
實時顯示?轉速曲線?、吸附力及報警功能（如進膠保護、吸附不足互鎖）?。
?5.安全與兼容性?
透明耐腐蝕蓋板（丙烯酸材質）隔絕有毒氣體，部分機型適配手套箱使用?。
適配半導體、光電子等領域?。
六、配置清單
主機1臺；
測試軟件1套；
說明書1份;
合格證1份;
保修卡1份;
簽收單1份;
銘牌1塊;
電源線1根;
扳手1套;
宣傳冊若干;
